在高純度氣體標準物質研制中對微量或痕量雜質的準確監測，往往是研制工作中的難點。高純氣 體是保證半導體芯片、大規模集成電路生產質量的關鍵因素，高純氣體的生產要受到眾多因素的影響，從稱量配氣到使用，它要流經很多管道，接觸許多配件、控制裝置和凈化設備，在長期運轉過程中，受配件、裝置、材質的影響，局部可能發生泄漏或滲漏，均會造成高純氣體的污染。在制備高純氣體標準物質的過程中，同樣也受到上述各種因素的影響。因此，對高純氣體純度的監測，是保證生產過程產品質量的關鍵環節。
為保證高純氣體標準物質的質量，必須配備高素質的分析人員進行檢測和分析工作，其雜質含量 應保證控制在10-6、10-9、10 -12 數量級。對從事 高純氣體質量監測的實驗室應當配置高精度的分析儀器，并且每年要進行計量認證，雖然投資較高，但對保證高純氣體的質量,提供準確可靠的分析數據是必要的。
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